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具有隔离区上擦除栅的非易失性存储器

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580019839.9
  • IPC分类号:H01L29/788;H01L29/423;H01L27/115
  • 申请日期:
    2005-06-03
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称具有隔离区上擦除栅的非易失性存储器
申请号CN200580019839.9申请日期2005-06-03
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-05-23公开/公告号CN1969392
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/788
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1;5查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人NXP股份有限公司当前权利人NXP股份有限公司
发明人R·T·F·范谢克;M·J·范杜伦
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
本发明提供了一种非易失性存储器器件及这种器件的制造方法。该器件包括浮栅(16)、控制栅(19)和分离的擦除栅(10)。擦除栅(10)被提供于设于衬底(1)内的隔离区(2)内或上。因此,擦除栅(10)不增加单元尺寸。与控制栅(19)和浮栅(16)之间的电容相比,擦除栅(10)和浮栅(16)之间的电容小,且荷电的浮栅(16)通过福勒-诺德海姆隧穿穿过擦除栅(10)和浮栅(16)之间的氧化物层而被擦除。

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