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等离子体处理装置以及等离子体处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410646179.8
  • IPC分类号:C23C16/513;C23C16/458
  • 申请日期:
    2014-11-14
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称等离子体处理装置以及等离子体处理方法
申请号CN201410646179.8申请日期2014-11-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-05-20公开/公告号CN104630748A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/513IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;5;1;3;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;8查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人加藤寿;三浦繁博;舆水地盐;山涌纯;山泽阳平
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;张会华
摘要
本发明提供一种等离子体处理装置以及等离子体处理方法。该等离子体处理装置配置有连接于高频电源的主天线和相对于该主天线电绝缘的(浮置状态的)辅助天线。另外,在俯视观察主天线以及辅助天线时的各自的投影区域彼此不重合。具体而言,相对于主天线而言将辅助天线配置于旋转台的旋转方向下游侧。而且,借助流通于主天线的感应电流使辅助天线产生电磁场,并且使辅助天线谐振,从而不仅在主天线的下方侧的区域产生感应等离子体,在辅助天线的下方侧的区域也产生感应等离子体。

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