同槽进行超低温与热处理的装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN200920137198.2
IPC分类号：C21D11/00;C21D1/00
申请日期：
2009-03-17
申请人：
王彦智;王彦骅;何英杰;高廷华;何上德

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著录项信息

专利名称	同槽进行超低温与热处理的装置
申请号	CN200920137198.2	申请日期	2009-03-17
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C21D11/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C21 铁的冶金 C21D 改变黑色金属的物理结构；黑色或有色金属或合金热处理用的一般设备；通过脱碳、回火或其他处理使金属具有韧性（扩散法渗入处理入C23C；涉及C23大类中的至少一种工艺和本小类中的至少一种工艺的金属材料表面处理入C23F 17/00；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层入C30B） C21D11/00 热处理过程的控制或调整〔2〕	IPC分类号	C;2;1;D;1;1;/;0;0;;;C;2;1;D;1;/;0;0查看分类表>
申请人	王彦智;王彦骅;何英杰;高廷华;何上德	申请人地址	台湾省桃园县桃园市新埔里34邻经国路56号11楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	王彦智,王彦骅,何英杰,高廷华,何上德	当前权利人	王彦智,王彦骅,何英杰,高廷华,何上德
发明人	王彦智;王彦骅;何英杰;高廷华;何上德
代理机构	厦门市新华专利商标代理有限公司	代理人	朱凌

摘要

本实用新型公开一种同槽进行超低温与热处理的装置，包含一处理槽、一冷却装置、一加热装置和一控制装置；处理槽具有槽体和可密合槽体的上盖，该槽体具有可置放处理对象的容室，并设置有隔温层；且处理槽内还设置有泄压阀和可抽取容室内气体的抽真空接头；冷却装置具有可导入冷却流体至容室的释放管；加热装置设于前述容室内；控制装置具有控制冷却装置、加热装置动作的控制器。此装置可提高处理物件的冷、热处理效率和均匀度，防止处理物件生锈，提升处理品质。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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