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一种基于埋SiGe的NMOS器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201811620863.3
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/06
  • 申请日期:
    2018-12-28
  • 申请人:
    西安科锐盛创新科技有限公司
著录项信息
专利名称一种基于埋SiGe的NMOS器件
申请号CN201811620863.3申请日期2018-12-28
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2020-07-07公开/公告号CN111384170A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6查看分类表>
申请人西安科锐盛创新科技有限公司申请人地址
陕西省西安市高新区高新路86号领先时代广场(B座)第2幢1单元22层12202号房51号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安科锐盛创新科技有限公司当前权利人西安科锐盛创新科技有限公司
发明人刘奕晨
代理机构西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)代理人孙涛涛
摘要
本发明涉及一种基于埋SiGe的NMOS器件,包括:半导体衬底(101)、Ge外延层(102)、SiGe层(104)、Ge沟道层(104)、源区(105)、漏区(106)、介质层(107)、栅极(108)、源极(109)和漏极(110);其中,所述Ge外延层(102)设置于所述半导体衬底(101)上且为脊状结构;所述SiGe层(104)设置于所述Ge外延层(102)上;所述Ge沟道层(104)设置于所述Ge外延层(102)和所述SiGe层(104)上;所述栅极(108)设置于所述Ge沟道层(104)上中间位置;本发明提供的NMOS器件相对于传统NMOS器件,其载流子迁移率有了很大提升,在减小NMOS器件尺寸的同时提高了NMOS器件的电流驱动与频率特性。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供