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光刻投射装置以及器件制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN03140753.6
IPC分类号：G03F7/20;G03F9/00;G06F9/00;H01L21/027
申请日期：
2003-05-08
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻投射装置以及器件制造方法
申请号	CN03140753.6	申请日期	2003-05-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2003-12-17	公开/公告号	CN1461976
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;6;F;9;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	J·海恩策
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	崔幼平

摘要

用于脉冲辐射源的控制系统是一个最低阶的闭环控制器，优选地，首先实现无差拍控制。在光刻装置中用于脉冲辐射源的性能指示量基于在靶部和实际脉冲能量之间的误差的移动平均值(MA)和移动标准偏差(MSD)。归一化指示量由下式给出：见右下式(I)和：其中Epref(i)表示和Eperr(i)对于一点i每一脉冲的参考能量和每一脉冲的能量误差。并且：见右下式(II)。

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