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一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610019756.X
  • IPC分类号:G02B27/00;G02B17/08
  • 申请日期:
    2016-01-13
  • 申请人:
    中国科学院上海技术物理研究所
著录项信息
专利名称一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统
申请号CN201610019756.X申请日期2016-01-13
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2016-04-20公开/公告号CN105511075A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/00IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;0;0;;;G;0;2;B;1;7;/;0;8查看分类表>
申请人中国科学院上海技术物理研究所申请人地址
上海市虹口区玉田路500号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海技术物理研究所当前权利人中国科学院上海技术物理研究所
发明人况耀武;舒嵘;何志平;亓洪兴;侯佳
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人郭英
摘要
本发明公开了一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,包括前向像移补偿镜、离轴三反无焦望远镜、第二折转镜、横向像移补偿镜、第三折转镜、分色片、通道一成像镜组、通道一像面、通道二成像镜组和通道二像面。整个光路以光轴为对称轴近似呈轴对称排布可有效减小航空相机摆扫时的转动惯量,无焦望远镜采用离轴三反的设计可避免中心遮挡保证相机的空间分辨率,望远镜具有实的入瞳和出瞳可以放置二维像移补偿镜。本发明具有大视场大相对口径、光路转动惯量小、结构紧凑、加工装调技术成熟等优点,可用于无人机和飞机吊舱等平台的高分辨率面阵摆扫航空光学相机中。

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