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一种双波长脉冲激光辐射剂量率效应模拟系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610325219.8
  • IPC分类号:G01T1/00
  • 申请日期:
    2016-05-17
  • 申请人:
    中国工程物理研究院电子工程研究所
著录项信息
专利名称一种双波长脉冲激光辐射剂量率效应模拟系统
申请号CN201610325219.8申请日期2016-05-17
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2016-07-27公开/公告号CN105807305A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01T1/00IPC分类号G01T1/00查看分类表>
申请人中国工程物理研究院电子工程研究所申请人地址
四川省绵阳市919信箱52*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国工程物理研究院电子工程研究所当前权利人中国工程物理研究院电子工程研究所
发明人孙鹏;龙衡;陈飞良;李倩;李沫;代刚;张健
代理机构成都天嘉专利事务所(普通合伙)代理人蒋斯琪
摘要
本发明公开了一种双波长脉冲激光辐射剂量率效应模拟系统,该系统包括双波长脉冲激光产生系统、脉冲激光双光路能量衰减与调节系统、测试与控制系统;本发明可同时产生532nm和1064nm的脉冲激光,并引入到双光路衰减和调节系统,两种波长激光在半导体器件中穿透深度不同,并通过物镜或扩束镜进行光斑聚焦或扩束,可对半导体器件灵活进行灵敏层和灵敏位置定位,有效弥补了现有单波长脉冲激光辐射剂量率效应模拟系统的不足,降低了试验成本,提高了试验效率,为有针对性的进行抗辐射加固设计提供了有效手段。

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