基于内同轴的对焦装置及基于内同轴的对焦方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201811622946.6
IPC分类号：B23K26/046;B23K26/04
申请日期：
2018-12-28
申请人：
武汉华工激光工程有限责任公司

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专利名称	基于内同轴的对焦装置及基于内同轴的对焦方法
申请号	CN201811622946.6	申请日期	2018-12-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-03-29	公开/公告号	CN109530912A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B23K26/046 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B23 机床；其他类目中不包括的金属加工 B23K 钎焊或脱焊；焊接；用钎焊或焊接方法包覆或镀敷；局部加热切割，如火焰切割；用激光束加工（用金属的挤压来制造金属包覆产品入B21C 23/22；用铸造方法制造衬套或包覆层入B22D 19/08；用浸入方式的铸造入B22D 23/04；用烧结金属粉末制造复合层入B22F 7/00；机床上的仿形加工或控制装置入B23Q；不包含在其他类目中的包覆金属或金属包覆材料入C23C；燃烧器入F23D） B23K26/00 用激光束加工，例如焊接，切割或打孔〔2，3，2014.01〕 B23K26/02 工件的定位和观测，如相对于冲击点，激光束的对正，瞄准或聚焦〔3，2014.01〕 B23K26/04 激光束的自动对正，瞄准或聚焦，如应用反向散射光〔3，2014.01〕 B23K26/046 激光束的自动聚焦〔2014.01〕	IPC分类号	B;2;3;K;2;6;/;0;4;6;;;B;2;3;K;2;6;/;0;4查看分类表>
申请人	武汉华工激光工程有限责任公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖新技术开发区东湖开发区华中科技大学科技园激光产业园变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华工激光工程有限责任公司	当前权利人	武汉华工激光工程有限责任公司
发明人	王雪辉;王建刚;雷桂明;许维;喻浩
代理机构	北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	暂无

摘要

本发明提供了一种基于内同轴的对焦装置及基于内同轴的对焦方法，属于激光加工技术领域。该装置包括光源、振镜聚焦系统、分光镜、激光器、摄像镜头和传感器。光源用于向工件输出光束，光束照射到工件表面后形成光束状态，光束状态的影像信息经过振镜聚焦系统传递到分光镜，影像信息透过分光镜再依次传递到摄像镜头和传感器。摄像镜头用于将影像信息传输至传感器中，传感器接收影像信息并经过软件处理和分析得到光束的质心位置。激光器用于输出激光，激光经过分光镜反射至振镜聚焦系统，激光通过振镜聚焦系统并聚焦到工件。该对焦装置能够消除对焦效率低及一致性差的问题，提高激光加工的效率。一种基于内同轴的对焦方法，使用上述提到的装置。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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