用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺

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专利名称	用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺
申请号	CN96106865.5	申请日期	1996-06-28
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1999-04-21	公开/公告号	CN1214532
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	日本电气株式会社	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	恩益禧电子股份有限公司	当前权利人	恩益禧电子股份有限公司
发明人	桥本修一;笠间邦彦
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	卢纪

摘要

一种光掩模具有一个用一条遮光带(11a/11b)实现的主图形(11)以及一个用半透明带(12a-12f)实现的副图形(12)，遮光带与半透明带的宽度相等，以致能使遮光带接近分辨率而不损坏副图形的效应。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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