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具有碳纳米管发射极的场发射显示器及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410056695.1
  • IPC分类号:H01J31/12;H01J29/02;H01J9/04;H01J1/304;H01J9/02
  • 申请日期:
    2004-08-12
  • 申请人:
    三星SDI株式会社
著录项信息
专利名称具有碳纳米管发射极的场发射显示器及其制造方法
申请号CN200410056695.1申请日期2004-08-12
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-02-16公开/公告号CN1581416
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J31/12IPC分类号H;0;1;J;3;1;/;1;2;;;H;0;1;J;2;9;/;0;2;;;H;0;1;J;9;/;0;4;;;H;0;1;J;1;/;3;0;4;;;H;0;1;J;9;/;0;2查看分类表>
申请人三星SDI株式会社申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星SDI株式会社当前权利人三星SDI株式会社
发明人崔濬熙;安德烈·朱尔卡尼夫
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人李晓舒;魏晓刚
摘要
提供一种含有碳纳米管发射极的场发射显示器(FED)及其制造方法。围绕CNT发射极的栅极叠层包括覆盖邻近CNT发射极的发射极电极的掩模层,以及形成在掩模层上的栅极绝缘膜、栅电极、第一氧化硅膜(SiOX,X<2)和聚焦栅电极。第一氧化硅膜的厚度为2μm或更大,并且优选3~15μm。用于形成第一氧化硅膜和/或栅极绝缘膜的硅烷和硝酸的流速分别保持在50~700scmm和700~4,500sccm。

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