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一种化学机械抛光液

发明专利有效专利

申请号：
CN200810041994.6
IPC分类号：C09G1/02;C23F1/26;H01L21/321
申请日期：
2008-08-22
申请人：
安集微电子（上海）有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种化学机械抛光液
申请号	CN200810041994.6	申请日期	2008-08-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2010-02-24	公开/公告号	CN101654598
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2;;;C;2;3;F;1;/;2;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;2;1查看分类表>
申请人	安集微电子（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	安集微电子（上海）有限公司	当前权利人	安集微电子（上海）有限公司
发明人	王晨;杨春晓
代理机构	上海翰鸿律师事务所	代理人	李佳铭

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、高碘酸和/或其盐、磷酸和/或其盐，以及水。所述的抛光液能显著提高钨的去除速率。

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