新型四方锥配合物非线性光学材料和晶体生长

发明专利无效专利

申请号：
CN99116465.2
IPC分类号：--
申请日期：
1999-05-13
申请人：
武汉大学

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著录项信息

专利名称	新型四方锥配合物非线性光学材料和晶体生长
申请号	CN99116465.2	申请日期	1999-05-13
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2000-07-05	公开/公告号	CN1258764
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	武汉大学	申请人地址	湖北省武汉市武昌珞珈山变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉大学	当前权利人	武汉大学
发明人	秦金贵;刘道玉;戴朝阳;杨楚罗;詹才茂;张俊;苏南兵;陈创天;吴柏昌
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一类新型四方锥型配合物及其制备方法和晶体生长方法。配合物的通式为LML′2，其中L可为吡啶及其衍生物，也可为尿素及其衍生物，也可为硫脲及其衍生物；M为锌或镉，L′为acac或其衍生物。这类配合物在可见光区完全透明，且有较高的光学非线性和较好的物理化学性能，并能得到较大尺寸的单晶，因此可用作非线性光学材料。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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