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在基板上沉积二氧化硅涂层的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200480024495.6
  • IPC分类号:C03C17/245
  • 申请日期:
    2004-07-02
  • 申请人:
    皮尔金顿北美公司
著录项信息
专利名称在基板上沉积二氧化硅涂层的方法
申请号CN200480024495.6申请日期2004-07-02
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2006-10-04公开/公告号CN1842501
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C03C17/245IPC分类号C;0;3;C;1;7;/;2;4;5查看分类表>
申请人皮尔金顿北美公司申请人地址
美国俄亥俄州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皮尔金顿北美公司当前权利人皮尔金顿北美公司
发明人D·纳尔逊;T·凯默利;M·P·小雷明顿
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人李连涛
摘要
在玻璃基板上制备二氧化硅涂层的方法,所述方法包括提供SiH4、NH3和O2的前体混合物,优选存在C2H4和惰性载气。在常压、在线化学气相沉积方法中沿着玻璃基板表面引入所述前体混合物。使所述前体混合物在玻璃基板表面反应,以在玻璃基板上形成基本不含氮的二氧化硅涂层。

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