蒸镀掩模

发明专利有效专利

申请号：
CN202080014896.2
IPC分类号：C23C14/04;H05B33/10;H01L51/50
申请日期：
2020-01-31
申请人：
株式会社日本显示器

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法律信息

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著录项信息

专利名称	蒸镀掩模
申请号	CN202080014896.2	申请日期	2020-01-31
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-10-08	公开/公告号	CN113490761A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/04 局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;0;4;;;H;0;5;B;3;3;/;1;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0查看分类表>
申请人	株式会社日本显示器	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日本显示器	当前权利人	株式会社日本显示器
发明人	岩井洋平;高城淳
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	邸万杰;徐飞跃

摘要

本发明实现能够在显示装置的制造中对像素以良好的精度蒸镀发光体的蒸镀掩模。为此，本发明具有如下的结构。在显示装置的制造中所使用的蒸镀掩模的特征在于，上述蒸镀掩模由用于将蒸镀物形成于像素的掩模(50)和支承上述掩模(50)的支承框(60)构成，上述支承框(60)由上板(61)、下板(62)和粘接上述上板(61)与上述下板(62)的粘接件(63)构成，具有止挡件(100)，其用于在上述上板(61)与上述下板(62)之间被施加剪切力时防止上述上板(61)与上述下板(62)在上述支承框(60)的主面方向上彼此偏移。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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