一种电阻抗断层成像方法

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专利名称	一种电阻抗断层成像方法
申请号	CN99115855.5	申请日期	1999-09-07
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2000-05-10	公开/公告号	CN1252571
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国人民解放军第四军医大学	申请人地址	陕西省西安市长乐西路17号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国人民解放军第四军医大学	当前权利人	中国人民解放军第四军医大学
发明人	汤孟兴;董秀珍;秦明新;尤富生;刘锐岗;史学涛;付峰
代理机构	西安通大专利代理有限责任公司	代理人	陈翠兰

摘要

一种电阻抗断层成像方法，包括建立图像重建模型、区域剖分、计算正向扰动矩阵、对正向扰动矩阵进行奇异值分解等步骤，其中设计了多个剖分组合成像的方法，有效地提高了重建图像的精度，尽可能地利用了测量数据中的信息，使成像质量向前迈进了一大步。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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