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有机薄膜晶体管阵列基板及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110128877.5
  • IPC分类号:H01L51/40;H01L27/28;H01L51/05
  • 申请日期:
    2011-05-18
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称有机薄膜晶体管阵列基板及其制备方法
申请号CN201110128877.5申请日期2011-05-18
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-08-22公开/公告号CN102646792A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/40IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;4;0;;;H;0;1;L;2;7;/;2;8;;;H;0;1;L;5;1;/;0;5查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人张学辉
代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司代理人黄志华
摘要
本发明实施例公开了一种有机薄膜晶体管阵列基板及其制备方法,涉及液晶显示技术领域,用于提高有机薄膜晶体管阵列基板的制备效率。本发明中,通过一次构图工艺在绝缘基板上形成像素电极的图形层、以及位于像素电极的图形层之上的源电极与数据线的图形层和漏电极的图形层;通过一次构图工艺形成覆盖在源电极与数据线的图形层和漏电极的图形层上的有机半导体层、以及覆盖在有机半导体层上的栅绝缘层;通过一次构图工艺在形成有栅绝缘层的绝缘基板上形成钝化层;通过一次构图工艺形成位于钝化层之上的栅电极与栅线的图形层。采用本发明,提高了有机薄膜晶体管阵列基板的制备效率。

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