一种快速去除光刻胶的装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201922122881.5
IPC分类号：G03F7/42
申请日期：
2019-12-02
申请人：
沃威沃水技术（中国）有限公司

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著录项信息

专利名称	一种快速去除光刻胶的装置
申请号	CN201922122881.5	申请日期	2019-12-02
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/42 剥离或剥离剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人	沃威沃水技术（中国）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区碧波路572弄115号8幢变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沃威沃水技术（中国）有限公司	当前权利人	沃威沃水技术（中国）有限公司
发明人	聂秀金;周敏君
代理机构	北京中索知识产权代理有限公司	代理人	刘翔

摘要

本实用新型公开了一种快速去除光刻胶的装置，包括底座，所述底座顶部的左侧固定连接有支撑杆，所述支撑杆的右侧固定连接有横板，所述横板的底部固定连接有伸缩气缸，所述伸缩气缸的底部固定连接有光刻机，所述底座顶部的中心处固定连接有传送装置。本实用新型通过驱动电机、转盘、除尘装置和清理装置的配合，通过驱动电机带动转盘旋转，便于对生产线上的半导体晶圆表面的光刻胶进行清除，不影响光刻机正常运行，提高工作效率，除尘装置将半导体晶圆表面的光刻胶进行吸附，避免二次污染，提高清洁效果，保证产品的生产质量，从而达到工作效率高的效果，解决了现有工作效率低的问题。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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