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具有清洗装置的真空镀膜系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110946645.4
  • IPC分类号:C23C14/56;C23C14/50;C23C14/34
  • 申请日期:
    2021-08-18
  • 申请人:
    杨智仁;施国彰;张范青
著录项信息
专利名称具有清洗装置的真空镀膜系统
申请号CN202110946645.4申请日期2021-08-18
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-11-16公开/公告号CN113652665A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/56IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人杨智仁;施国彰;张范青申请人地址
中国台湾台中市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杨智仁,施国彰,张范青当前权利人杨智仁,施国彰,张范青
发明人杨智仁;施国彰;张范青
代理机构北京泰吉知识产权代理有限公司代理人史瞳;顾以中
摘要
一种具有清洗装置的真空镀膜系统,包含本体单元、至少一个溅镀装置及清洗装置。所述本体单元包括界定出真空腔的壳体、中心轴,及能以所述中心轴为轴心等角速率旋转的载台,所述载台设置于所述真空腔并具有数个环绕所述中心轴设置且适用于供数个基板设置的填充座。所述至少一个溅镀装置设置于所述壳体并朝向所述填充座,适用于将所述基板的表面镀上元素。所述清洗装置设置于所述本体单元,并适用于对未进行镀膜的所述基板进行前置处理,以减少所述基板上的杂质或污染。借此,能达到均匀镀膜、提升镀膜附着力,提高良率的效果。

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