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一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711316128.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-12-12
  • 申请人:
    中国科学院光电技术研究所
著录项信息
专利名称一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台
申请号CN201711316128.9申请日期2017-12-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-04-20公开/公告号CN107942621A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人中国科学院光电技术研究所申请人地址
四川省成都市双流350信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院光电技术研究所当前权利人中国科学院光电技术研究所
发明人罗先刚;蒲明博;高平;马晓亮;薛磊
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台,该承片台核心部件为阳极氧化铝孔基板,表面均布纳米级气孔,与气流盘连通,气流盘接通气源后,整个阳极氧化铝孔基板均匀气流,在曝光与掩模板贴合的过程中,增大气源气压,使得基片脱离阳极氧化铝孔基板挤压掩模板,实现气浮曝光,能够有效的提高曝光精度。曝光过程中,工作区域温度升高,该承片台在温度升高一定范围内平整精度升高,避免基片扭曲变形,图形失真等现象,同时也避免了基片受力不均、内部应力大的问题。

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