一种壳体结构上的雕刻优化设计方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110063943.9
IPC分类号：G06F30/20;G06F30/10;G06F111/04;G06F111/06;G06F111/10;G06F119/14
申请日期：
2021-01-18
申请人：
大连理工大学

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著录项信息

专利名称	一种壳体结构上的雕刻优化设计方法
申请号	CN202110063943.9	申请日期	2021-01-18
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-05-04	公开/公告号	CN112749492A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06F30/20	IPC分类号	G;0;6;F;3;0;/;2;0;;;G;0;6;F;3;0;/;1;0;;;G;0;6;F;1;1;1;/;0;4;;;G;0;6;F;1;1;1;/;0;6;;;G;0;6;F;1;1;1;/;1;0;;;G;0;6;F;1;1;9;/;1;4查看分类表>
申请人	大连理工大学	申请人地址	辽宁省大连市甘井子区凌工路2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大连理工大学	当前权利人	大连理工大学
发明人	王胜法;胡江北;郑晓鹏;雷娜;罗钟铉
代理机构	大连理工大学专利中心	代理人	温福雪

摘要

一种壳体结构上的雕刻优化设计方法，属于计算机辅助设计领域。在输入任意一种流形曲面后，得到一定厚度的壳体结构和曲面的Voronoi图，计算壳体结构的有向距离场作为壳体结构的函数表示；通过Voronoi确定雕刻部件的分布，其中雕刻部件的尺寸和摆放方向是可以控制的变量。然后在给定的外部约束条件下，通过构建能量函数模型对雕刻优化设计进行建模，并给出对应的离散化形式。最后，用力学领域常用的MMA解优化算法对优化问题进行求解，得到最优化的雕刻设计结果。该发明第一次提出完整的壳体结构上的雕刻设计与优化框架，具有高效通用、兼容性强和高鲁棒性等优点，大大缩短了设计和优化周期，且适用于常用的3D打印制造方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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