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梯度分布的钕铁硼磁体及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010698191.9
  • IPC分类号:H01F1/057;H01F41/02
  • 申请日期:
    2020-07-20
  • 申请人:
    江西金力永磁科技股份有限公司
著录项信息
专利名称梯度分布的钕铁硼磁体及其制备方法
申请号CN202010698191.9申请日期2020-07-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-09-11公开/公告号CN111653407A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01F1/057IPC分类号H;0;1;F;1;/;0;5;7;;;H;0;1;F;4;1;/;0;2查看分类表>
申请人江西金力永磁科技股份有限公司申请人地址
江西省赣州市经济技术开发区金岭西路81号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江西金力永磁科技股份有限公司当前权利人江西金力永磁科技股份有限公司
发明人廖明活;刘永;朱宾;吴海明
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
本发明提供了一种梯度分布的钕铁硼磁体,包括易退磁区和不易退磁区,在垂直于磁化方向上,易退磁区的剩磁小于不易退磁区的剩磁,易退磁区的矫顽力大于不易退磁区的矫顽力,在沿垂直磁化方向上,易退磁区的剩磁和矫顽力分别为恒定值,不易退磁区的剩磁和矫顽力分别为恒定值。本申请提供的钕铁硼磁体由于剩磁和矫顽力的梯度分布,使得该种钕铁硼磁体的剩磁、矫顽力、磁通和表磁最优。

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