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光刻装置和器件的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN02145592.9
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2002-11-30
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻装置和器件的制造方法
申请号	CN02145592.9	申请日期	2002-11-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2003-10-22	公开/公告号	CN1450410
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	H·雅各布斯;P·沃斯特斯;S·A·J·霍尔;H·K·范德肖特;R·J·P·范迪森;D·W·卡兰
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	黄铁坚

摘要

一种光刻投射装置，其中导管向在真空室内的例如目标台、相关的电机或传感器等可移动部件提供有用物质。导管包括防止由于真空室的真空而发生导管渗气的柔性金属波纹管，该波纹管同时允许可移动部件至少在第一自由度移动。

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