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一种晶圆测量装置、厚度测量方法及厚度测量装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011415568.1
  • IPC分类号:G01B11/06
  • 申请日期:
    2020-12-04
  • 申请人:
    北京中电科电子装备有限公司
著录项信息
专利名称一种晶圆测量装置、厚度测量方法及厚度测量装置
申请号CN202011415568.1申请日期2020-12-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-03-26公开/公告号CN112556590A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B11/06IPC分类号G;0;1;B;1;1;/;0;6查看分类表>
申请人北京中电科电子装备有限公司申请人地址
北京市经济技术开发区泰河三街1号楼310室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京中电科电子装备有限公司当前权利人北京中电科电子装备有限公司
发明人刘国敬;衣忠波;岳芸;郭俊伟;李战伟
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人许静;曹娜
摘要
本发明提供了一种晶圆测量装置、厚度测量方法及厚度测量装置,所述晶圆测量装置包括:承片台,用于固定待测量晶圆;测量仪,设置于所述承片台的上方位置,用于测量所述待测量晶圆的厚度;摆动机构,与所述测量仪连接,用于驱动所述测量仪相对于所述待测量晶圆进行平移运动;升降机构,与所述摆动机构连接,用于驱动所述摆动机构和所述测量仪相对于所述待测量晶圆上下移动。本发明方案,可以直接检测承片台上的加工后的晶圆的片内厚度,无需将晶圆从承片台上卸载,减少操作工序,节约时间与成本,实现自动化。

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