首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

高速多光束并行激光直写装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200910045637.1
IPC分类号：G03F7/00;G03F7/20;B23K26/06;B23K26/08;B23K26/42
申请日期：
2009-01-21
申请人：
中国科学院上海光学精密机械研究所

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	高速多光束并行激光直写装置
申请号	CN200910045637.1	申请日期	2009-01-21
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2009-07-08	公开/公告号	CN101477306
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;B;2;3;K;2;6;/;0;6;;;B;2;3;K;2;6;/;0;8;;;B;2;3;K;2;6;/;4;2查看分类表>
申请人	中国科学院上海光学精密机械研究所	申请人地址	上海市800-211邮政信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所	当前权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人	徐文东;范永涛
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	张泽纯

摘要

一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置，由刻写光源调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和主控模块组成，本发明提供多光束激光并行高速刻写，大大提高了刻写速度。可根据实际应用需要，将多光束的刻写子系统与不同运动方式的样品台组合成具有不同功能的刻写装置。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供