一种多工位立式抛光机

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201320543280.1
IPC分类号：B24B29/02
申请日期：
2013-09-03
申请人：
宇环数控机床股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种多工位立式抛光机
申请号	CN201320543280.1	申请日期	2013-09-03
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B29/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B29/00 有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置（使用砂带磨削或抛光入B24B 21/00）〔4〕 B24B29/02 适用于特殊工件的〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;2;9;/;0;2查看分类表>
申请人	宇环数控机床股份有限公司	申请人地址	湖南省长沙市浏阳制造产业基地纬二路变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宇环数控机床股份有限公司	当前权利人	宇环数控机床股份有限公司
发明人	许亮;陈永福
代理机构	长沙新裕知识产权代理有限公司	代理人	刘熙

摘要

本实用新型公开了一种多工位立式抛光机，包括机架、工件夹紧回转系统和抛光轮系统；所述抛光轮系统设在机架的中部；所述工件夹紧回转系统为两组通过支架上的水平导轨设在机架上位于抛光轮系统的两侧，且分别与设在机架上的恒压力驱动系统连接沿所述水平导轨运动；所述支架设在机架上的垂直导轨上并与设在机架上的升降机构连接沿所述垂直导轨运动。本实用新型可通过数控系统控制，具有工件转速按实际要求变化、抛光轮转速预设、预设的抛光压力操持恒定、磨料磨损自动补偿等功能，并能实现对各种外形工件的周边及曲面进行抛光加工。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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