低成本光刻技术

发明专利无效专利

申请号：
CN03108107.X
IPC分类号：G03F1/00;G03F1/16;G03F7/00
申请日期：
2003-03-19
申请人：
张国飙

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	低成本光刻技术
申请号	CN03108107.X	申请日期	2003-03-19
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2003-10-01	公开/公告号	CN1445604
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;1;6;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	张国飙	申请人地址	四川省成都市建设路59号5A－001信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	张国飙	当前权利人	张国飙
发明人	张国飙
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明提出的低成本光刻技术基于两种方案1.使用低精度的nF开口掩模版(开口大小～nF，n＞1)形成高精度的开口类图形(开口大小～1F)；2.通过使用运算型光刻系统和/或光刻编程系统来提高掩模版的再使用率。它可以用来实现光刻编程集成电路等。低成本光刻技术中的图形分布还能应用到高精度掩模版中，实现高阶修正掩模版(即对掩模版图形进行高阶修正)和掩模版的冗余修复(即通过冗余掩模图形来修复有缺陷的掩模版)。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供