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光感测阵列的光感测单元的制造方法及其结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610107533.9
  • IPC分类号:H01L27/146
  • 申请日期:
    2016-02-26
  • 申请人:
    友达光电股份有限公司
著录项信息
专利名称光感测阵列的光感测单元的制造方法及其结构
申请号CN201610107533.9申请日期2016-02-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-07-13公开/公告号CN105762161A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/146IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;4;6查看分类表>
申请人友达光电股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人友达光电股份有限公司当前权利人友达光电股份有限公司
发明人陈盈宪;孙硕阳;郑造时;黄婉真;徐文斌;郑君丞
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人梁挥;鲍俊萍
摘要
一种光感测阵列的光感测单元的制造方法,包括提供基板,基板上具有至少一单元区域。在基板上的单元区域内形成主动元件。在基板上的单元区域内形成第一电极层,所述第一电极层与主动元件电性连接。在主动元件上形成保护层。在保护层上形成遮蔽层,以遮蔽主动元件。于形成遮蔽层之后,在单元区域内的保护层上形成光感测层,以及,于光感测层上形成第二电极层。

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