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使用二衍射级成像的离轴照明覆盖测量

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201880096229.6
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B7/38;G01N21/47;G01N21/952
  • 申请日期:
    2018-12-14
  • 申请人:
    科磊股份有限公司
著录项信息
专利名称使用二衍射级成像的离轴照明覆盖测量
申请号CN201880096229.6申请日期2018-12-14
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-03-26公开/公告号CN112567296A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;7;/;3;8;;;G;0;1;N;2;1;/;4;7;;;G;0;1;N;2;1;/;9;5;2查看分类表>
申请人科磊股份有限公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人科磊股份有限公司当前权利人科磊股份有限公司
发明人Y·沙立波;Y·帕斯卡维尔;V·莱温斯基;A·玛纳森;S·埃桑巴赫;G·拉雷多;A·希尔德斯海姆
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人刘丽楠
摘要
本发明提供增强测量的准确度且能够简化测量过程及改进计量目标与半导体装置之间的对应性的计量方法及工具。方法包含:以利特罗(Littrow)配置照明目标以产生包含‑1衍射级及0衍射级的第一测量信号及包含+1衍射级及0衍射级的第二测量信号,其中所述第一测量信号的所述‑1衍射级及所述第二测量信号的所述+1衍射级与所述照明的方向成180°衍射;执行所述第一测量信号的第一测量及所述第二测量信号的第二测量;及从所述第一测量及所述第二测量导出(若干)计量度量。任选地,反射0衍射级可经分裂以产生与所述‑1及+1衍射级相互作用的分量。

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