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基底处理装置和方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200810000424.2
IPC分类号：H01L21/00;G03F7/42
申请日期：
2008-01-04
申请人：
PSK有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基底处理装置和方法
申请号	CN200810000424.2	申请日期	2008-01-04
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-07-23	公开/公告号	CN101226875
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人	PSK有限公司	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	PSK有限公司	当前权利人	PSK有限公司
发明人	白仁赫
代理机构	北京信慧永光知识产权代理有限责任公司	代理人	武玉琴;张友文

摘要

一种基底处理装置，它包括提供了用于进行基底处理过程的处理空间的处理室、其上保持着基底的基底保持部件以及安装在处理室的上侧处的气体分配板。所述气体分配板包括多个不对称形成的气体注入流动通道，用于将等离子体和处理气体分配给处理空间。根据本发明，在处理室内的不均匀空间中提供了均匀的等离子体密度，从而能均匀地处理基底。

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