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多层膜及其制造方法、光学各向异性转印体的制造方法、光学各向异性层、光学各向异性构件和光学层叠体

发明专利有效专利

申请号：
CN201680022770.3
IPC分类号：G02B5/30;B32B7/02;H01L51/50;H05B33/02
申请日期：
2016-04-20
申请人：
日本瑞翁株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	多层膜及其制造方法、光学各向异性转印体的制造方法、光学各向异性层、光学各向异性构件和光学层叠体
申请号	CN201680022770.3	申请日期	2016-04-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-01-02	公开/公告号	CN107533177A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/30 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/30 偏振元件（光调制器件入G02F 1/00）	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;3;0;;;B;3;2;B;7;/;0;2;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;5;B;3;3;/;0;2查看分类表>
申请人	日本瑞翁株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日本瑞翁株式会社	当前权利人	日本瑞翁株式会社
发明人	波多野拓;齐藤昌和;桥本弘昌
代理机构	北京柏杉松知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	赵曦;刘继富

摘要

本发明涉及一种多层膜，其具有第一基材和在上述第一基材上直接形成的包含固化液晶分子的光学各向异性层，上述第一基材具有取向控制力，并且上述第一基材的23℃时的拉伸模量为2500MPa以上。

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