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在电极上设有导电体突出部的介质阻挡放电式的等离子产生电极结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201380037414.5
  • IPC分类号:H01T19/04;H01T23/00
  • 申请日期:
    2013-06-27
  • 申请人:
    SP技术有限公司
著录项信息
专利名称在电极上设有导电体突出部的介质阻挡放电式的等离子产生电极结构
申请号CN201380037414.5申请日期2013-06-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-07-01公开/公告号CN104756334A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01T19/04IPC分类号H;0;1;T;1;9;/;0;4;;;H;0;1;T;2;3;/;0;0查看分类表>
申请人SP技术有限公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人SP技术有限公司当前权利人SP技术有限公司
发明人孙熙植
代理机构中国商标专利事务所有限公司代理人宋义兴;赵婷
摘要
本发明提供介质阻挡放电式等离子产生电极结构。本发明的电极结构包括:上部导电电极和下部导电电极;至少一个导电电极突出部,形成于所述上部导电电极和/或下部导电电极的至少一个表面上;电介质层,以大体上均匀的厚度形成于彼此相向设置的所述上部导电电极和下部导电电极至少一个内侧表面;特定的间隔(d),当所述上部导电电极和下部导电电极彼此紧密接触时,借助于所述导电电极突出部的突起效果,该间隔(d)形成于所述上部和下部导电电极与介电层之间或形成于彼此相向设置的介电层之间;在所述上部导电电极和下部导电电极上施加脉冲或交流电源以产生等离子。

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