真空显示设备

发明专利无效专利

申请号：
CN02821981.3
IPC分类号：--
申请日期：
2002-10-24
申请人：
皇家飞利浦电子股份有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	真空显示设备
申请号	CN02821981.3	申请日期	2002-10-24
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-07-06	公开/公告号	CN1636256
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	皇家飞利浦电子股份有限公司	申请人地址	荷兰艾恩德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	皇家飞利浦电子股份有限公司	当前权利人	皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人	N·C·范德瓦尔特;M·G·H·希丁克;S·T·德瓦特;A·H·M·霍特斯拉格;T·S·巴尔勒;H·－H·贝斯特;G·F·加尔纳
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	吴立明;罗朋

摘要

本发明涉及一个真空显示设备，该设备包含具有像素(35)的显示屏(30)，用于产生多个电子束(EB)的阴极装置(20)，各电子束相应于一个像素(35)，该设备还包含寻址装置(41、42)，寻址装置用于通过调制相应像素(35)的电子束的浓度为像素(35)寻址。管道结构(10)排列在邻近阴极装置(20)。这个管道结构(10)包含多个电子束引导谐振腔(15)，各谐振腔对应于一个像素(35)，并保护阴极装置(20)远离附带的离子。谐振腔(15)的出口(17)比入口(16)小，因此从谐振腔(15)射出的电子束(EB)有特别高的亮度和空间均衡性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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