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双层掺混结构碳纳米管薄膜场发射阴极及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810150639.2
  • IPC分类号:H01J1/304;H01J9/02
  • 申请日期:
    2008-08-15
  • 申请人:
    西安交通大学
著录项信息
专利名称双层掺混结构碳纳米管薄膜场发射阴极及其制备方法
申请号CN200810150639.2申请日期2008-08-15
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-01-07公开/公告号CN101339872
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J1/304IPC分类号H;0;1;J;1;/;3;0;4;;;H;0;1;J;9;/;0;2查看分类表>
申请人西安交通大学申请人地址
陕西省西安市咸宁路28号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安交通大学当前权利人西安交通大学
发明人朱长纯;商世广
代理机构西安通大专利代理有限责任公司代理人陈翠兰
摘要
本发明公开了一种双层掺混结构碳纳米管薄膜场发射阴极及其制备方法。采用Ti纳米粉体掺混制备CNT复合浆料,通过丝网技术印刷出单层Ti掺混结构的CNT阴极薄膜。通过两步烧结工艺,形成上层为TiO2掺混、下层为Ti掺混结构的双层掺混结构CNT复合薄膜阴极。在复合薄膜阴极的表层,导电的Ti转化为非导电的介质材料TiO2;降低了CNT相互接触而产生屏蔽效应,有利于CNT发射体增强因子的增加。在复合薄膜阴极的底部,掺混纳米材料Ti增加了CNT相互之间、CNT与衬底之间的接触面积,降低了导电电极层与CNT层的接触电阻,提高复合薄膜阴极下层CNT本身的电子传输性能。

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