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一种抗变形的像素结构及包括其的下基板和电润湿显示器

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610329981.3
  • IPC分类号:G02B26/00
  • 申请日期:
    2016-05-17
  • 申请人:
    华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院
著录项信息
专利名称一种抗变形的像素结构及包括其的下基板和电润湿显示器
申请号CN201610329981.3申请日期2016-05-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-08-10公开/公告号CN105842842A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B26/00IPC分类号G;0;2;B;2;6;/;0;0查看分类表>
申请人华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院申请人地址
广东省广州市大学城华南师范大学理五栋彩色动态电子纸显示技术研究所 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华南师范大学,深圳市国华光电科技有限公司,深圳市国华光电研究院当前权利人华南师范大学,深圳市国华光电科技有限公司,深圳市国华光电研究院
发明人周蕤;唐彪;吴昊;郭媛媛;罗伯特·安德鲁·海耶斯;周国富
代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司代理人唐致明
摘要
本发明公开了一种抗变形的像素结构及包括其的下基板和电润湿显示器,在显示区域内,像素结构围成多个像素格,像素格呈阵列排布,在显示区域的外沿区域内,像素结构设有至少两列围绕显示区域间断设置的抗变形槽,抗变形槽为长条形槽,各列抗变形槽错位设置;在回炉热处理工艺后,在显示区域的外沿区域,像素结构材料会向外侧收缩,在此收缩作用下,抗变形槽被拉伸变形,由于每列抗变形槽错位设置,在变形中吸收了显示区域的外沿区域产生的拉应力,大大减小了传递到形成像素格的像素墙的拉应力,可显著减小电润湿显示器在回炉热处理工艺后像素格的变形,提高后续油墨填充工艺的均匀性,防止憎水性绝缘层在显示区域的外沿区域受拉应力而破损。

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