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一种紫外示踪的耐高钙高pH阻垢剂及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010200419.3
  • IPC分类号:C08F290/06;C08F222/06;C08F220/06;C08F222/02;C02F5/10
  • 申请日期:
    2010-06-13
  • 申请人:
    东南大学
著录项信息
专利名称一种紫外示踪的耐高钙高pH阻垢剂及其制备方法
申请号CN201010200419.3申请日期2010-06-13
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2010-10-20公开/公告号CN101864047A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08F290/06IPC分类号C;0;8;F;2;9;0;/;0;6;;;C;0;8;F;2;2;2;/;0;6;;;C;0;8;F;2;2;0;/;0;6;;;C;0;8;F;2;2;2;/;0;2;;;C;0;2;F;5;/;1;0查看分类表>
申请人东南大学申请人地址
江苏省常州市武进区郑陆武澄工业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东南大学,江海环保有限公司当前权利人东南大学,江海环保有限公司
发明人周钰明;符嫦娥;谢洪涛;吴文导;孙伟
代理机构南京天翼专利代理有限责任公司代理人汤志武
摘要
本发明提供一种紫外示踪的耐高钙高pH阻垢剂及其制备方法,该阻垢剂适用于高钙高pH工业循环冷却水系统中磷酸钙的阻垢,是由含不饱和双键的羧酸酯聚醚单体、不饱和羧酸单体、不饱和芳香族化合物单体进行自由基聚合反应而得,其结构通式如下:其中:E是不饱和芳香族化合物单体自由基共聚后的重复结构单元;R1为-H或-COOH;R2、R3和R4为-H或C1~C4的低碳烷基;R5为C1~C4的低碳烷基、-H、-SO3M、-CH2COOM、-CH(CH3)COOM、-CH(CH2CH3)COOM中的一种,M为H+或K+或Na+;聚合度x为1~5000,聚合度y为1~5000,聚合度z为1~5000,聚合度n为1~100。

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