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用于辐射目标的发光装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980082481.6
  • IPC分类号:G02B19/00;G02B27/09;G02B7/02
  • 申请日期:
    2019-12-10
  • 申请人:
    贺利氏特种光源有限公司
著录项信息
专利名称用于辐射目标的发光装置
申请号CN201980082481.6申请日期2019-12-10
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-30公开/公告号CN113196128A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B19/00IPC分类号G;0;2;B;1;9;/;0;0;;;G;0;2;B;2;7;/;0;9;;;G;0;2;B;7;/;0;2查看分类表>
申请人贺利氏特种光源有限公司申请人地址
德国哈瑙 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人贺利氏特种光源有限公司当前权利人贺利氏特种光源有限公司
发明人J·格拉德;J·德格罗内特;A·斯塔尔
代理机构北京市中咨律师事务所代理人刘丹;吴鹏
摘要
本发明涉及一种用于辐射目标的发光装置(1),所述目标例如是具有印上的漆等等的印刷品(3),所述发光装置包括多个半导体光源(11、12、13),其中,至少两个第一半导体光源(11)形成在侧向方向(L)上定向的第一光源列(21),其中,至少两个另外的半导体光源(12)形成在侧向方向(L)上定向的第二光源列(22),设有多个彼此分离的透镜(31、32、33),所述透镜用于准直和/或会聚来自半导体光源(12、13、13)的光,其中,每个光源列(21、22)被分配给其中一个透镜(31、32、33)。

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