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掩模

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201280059582.X
  • IPC分类号:G02F1/1337G02F1/13
  • 申请日期:
    2012-12-03
  • 申请人:
    LG化学株式会社
著录项信息
专利名称掩模
申请号CN201280059582.X申请日期2012-12-03
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2014-07-30公开/公告号CN103959157A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/1337IPC分类号G02F1/1337;G02F1/13查看分类表>
申请人LG化学株式会社申请人地址
韩*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人LG化学株式会社当前权利人LG化学株式会社
发明人辛富建
代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司代理人李静;黄丽娟
摘要
本发明提供一种掩模、一种制造该掩模的方法、一种光照射器件、一种光照射的方法和一种制造取向有序的光配向层的方法。当使用本发明的掩膜时,可以用具有优异的线性性能和均匀的照度的光照射待照射对象的表面上。此外,例如,即使在待照射对象具有弯曲表面时,本发明的掩模可以有效地照射光。

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