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二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN03804816.7
  • IPC分类号:C09D183/02;C09D183/04;C09D5/25
  • 申请日期:
    2003-02-26
  • 申请人:
    日立化成工业株式会社
著录项信息
专利名称二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件
申请号CN03804816.7申请日期2003-02-26
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-07-13公开/公告号CN1639283
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D183/02IPC分类号C;0;9;D;1;8;3;/;0;2;;;C;0;9;D;1;8;3;/;0;4;;;C;0;9;D;5;/;2;5查看分类表>
申请人日立化成工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日立化成工业株式会社当前权利人日立化成工业株式会社
发明人樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人钟晶
摘要
本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物,含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂,作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂,作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物,具有如下固化性能,在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的相对电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物,在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。

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