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层堆叠结构、阵列基板和显示装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201620126200.6
  • IPC分类号:H01L23/485;H01L23/528;H01L27/12
  • 申请日期:
    2016-02-17
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称层堆叠结构、阵列基板和显示装置
申请号CN201620126200.6申请日期2016-02-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/485IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;4;8;5;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;8;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人程鸿飞
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人彭久云;王锐
摘要
提供一种层堆叠结构、包括该层堆叠结构的阵列基板以及包括该阵列基板的显示装置。该层堆叠结构,包括:衬底基板;在远离所述衬底基板的方向上依次堆叠的第一导电层、第一绝缘层、第二导电层和第二绝缘层,其中,所述第一导电层与所述第二导电层在一重叠区域中彼此重叠,设置在所述重叠区域中的凹陷部,包括:贯通所述第一绝缘层的第一过孔;贯通所述第二导电层的第二过孔;以及贯通所述第二绝缘层的第三过孔,其中,所述第一过孔、所述第二过孔和所述第三过孔彼此连通,以及导电连接构件,延伸通过所述凹陷部的所述第三过孔、所述第二过孔和所述第一过孔,其中,所述第一导电层和所述第二导电层通过所述导电连接构件彼此电性连接。

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