掩膜板及隔垫物制作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310438678.3
IPC分类号：G03F1/26;G02F1/1339
申请日期：
2013-09-24
申请人：
北京京东方光电科技有限公司

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著录项信息

专利名称	掩膜板及隔垫物制作方法
申请号	CN201310438678.3	申请日期	2013-09-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-12-18	公开/公告号	CN103454850A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/26 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/26 相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;2;6;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;9查看分类表>
申请人	北京京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市经济技术开发区西环中路8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京京东方光电科技有限公司	当前权利人	北京京东方光电科技有限公司
发明人	陈小川;薛海林;车春城;姜文博;李月
代理机构	北京路浩知识产权代理有限公司	代理人	李相雨

摘要

本发明涉及显示技术领域，公开了一种掩膜板，所述掩膜板的透光区域包括若干通光孔排成的阵列，在所述掩膜板上对应相邻两个通光孔其中之一的区域形成有用于使通过的光线产生相位转移的相转移层。本发明还公开了一种隔垫物制作方法。利用本发明的掩膜板和隔垫物的制作方法，在制作高PPI的产品中的PS时，在掩膜板对应相邻两个通光孔其中之一的区域形成有相转移层，使通过的光线产生相位转移，这样通过相邻两个通光孔的光线在衍射区域（即对应掩膜板不透光区域）光强可以相互抵消，从而在制作PS时减轻甚至避免了相邻两个PS产生的粘连现象。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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