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NP电极共平面倒装Micro-LED微显示阵列及制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910668693.4
  • IPC分类号:H01L27/15;H01L33/00;H01L33/38
  • 申请日期:
    2019-07-23
  • 申请人:
    北京工业大学
著录项信息
专利名称NP电极共平面倒装Micro-LED微显示阵列及制作方法
申请号CN201910668693.4申请日期2019-07-23
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-11-22公开/公告号CN110491895A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/15IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;5;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0;;;H;0;1;L;3;3;/;3;8查看分类表>
申请人北京工业大学申请人地址
北京市朝阳区平乐园100号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京工业大学当前权利人北京工业大学
发明人郭伟玲;邰建鹏;申栗繁;孙捷
代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司代理人沈波
摘要
本发明公开了NP电极共平面倒装Micro‑LED微显示阵列及制作方法,包括电致发光阵列、倒装结合层、阵列倒装基板;电致发光阵列包括:像素单元、像素单元隔离槽、衬底;像素单元包括:N型半导体、有源区、P型半导体、绝缘层、N型电极、P型电极;阵列倒装基板包括:基板衬底、P电极互连线,N电极互连线、绝缘层。对外延材料进行干法刻蚀至N型半导体得到电极沟槽,并将像素单元隔离成两部分,然后生长绝缘层对电极沟槽侧壁进行保护,再溅射电极。使用干法刻蚀至衬底得到像素隔离槽,实现相邻像素电隔离。本发明采用倒装加共晶焊\回流焊方式可以提高芯片金属电极与下基板接触面积,从而提高热传导效率和机械强度。

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