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等离子体处理装置及等离子体处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110404343.4
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2021-04-15
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称等离子体处理装置及等离子体处理方法
申请号CN202110404343.4申请日期2021-04-15
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-10-29公开/公告号CN113571403A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人永海幸一
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人徐殿军
摘要
本发明的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器及电源系统。基板支承器具有电极,构成为在腔室内支承基板。电源系统与电极电连接。电源系统构成为在第1期间将第1脉冲作为偏置电压输出至电极,并在第1期间之后的第2期间将第2脉冲作为偏置电压输出至电极。第1脉冲及第2脉冲分别为电压的脉冲。第1脉冲的电压电平与第2脉冲的电压电平不同。

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