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有源TSV转接板结构及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011634432.X
  • IPC分类号:H01L23/48;H01L23/498;H01L23/522;H01L23/538;H01L21/48
  • 申请日期:
    2020-12-31
  • 申请人:
    华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
著录项信息
专利名称有源TSV转接板结构及其制造方法
申请号CN202011634432.X申请日期2020-12-31
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2021-05-28公开/公告号CN112864118A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/48IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;4;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9;8;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;2;;;H;0;1;L;2;3;/;5;3;8;;;H;0;1;L;2;1;/;4;8查看分类表>
申请人华进半导体封装先导技术研发中心有限公司申请人地址
江苏省无锡市新区菱湖大道200号中国传感网国际创新园D1栋 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华进半导体封装先导技术研发中心有限公司当前权利人华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
发明人耿菲;曹立强;张凯
代理机构上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人张东梅
摘要
本发明提供了一种有源TSV转接板结构及其制造方法,包括:在第一芯片上表面形成有源功能层;在有源功能层上表面形成未贯穿第一芯片的第一TSV结构;形成第一介质层,所述第一介质层完全覆盖有源功能层上表面以及第一TSV结构的侧壁和底部;在第一TSV结构内填充导电金属;将有源功能层的电性引出,以使其与导电金属电连接;对第一芯片下表面进行处理,暴露出第一TSV结构内的导电金属;将导电金属的电性由第一芯片下表面引出。

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