一种单嘴真空精炼装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201220713193.1
IPC分类号：C21C7/072;C21C7/10
申请日期：
2012-12-20
申请人：
北京科技大学

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著录项信息

专利名称	一种单嘴真空精炼装置
申请号	CN201220713193.1	申请日期	2012-12-20
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C21C7/072 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C21 铁的冶金 C21C 生铁的加工处理，例如精炼、熟铁或钢的冶炼；熔融态下铁类合金的处理 C21C7/00 熔融铁类合金的处理，例如不包括在C21C 1/00到C21C 5/00组的钢（铸造成型过程中熔融金属的处理入B22D 1/00、B22D 27/00） C21C7/04 添加处理剂去除杂质 C21C7/072 用气体处理（C21C 7/06，C21C 7/064，C21C 7/068优先）〔3〕	IPC分类号	C;2;1;C;7;/;0;7;2;;;C;2;1;C;7;/;1;0查看分类表>
申请人	北京科技大学	申请人地址	北京市海淀区学院路30号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京科技大学	当前权利人	北京科技大学
发明人	张立峰;李菲;王升千
代理机构	北京金智普华知识产权代理有限公司	代理人	皋吉甫

摘要

一种单嘴真空精炼装置，属于钢铁冶金炉外精炼技术领域。该装置主要由真空室、挡墙、钢包及吹气口组成。挡墙设置在真空室的下部将单浸入管隔断成第一浸入管和第二浸入管，吹气口位于第一浸入管的下方，距底部的距离为挡墙高度的0.1~0.5；双浸入管横截面为半圆形、椭圆形或其他形状；挡墙高度H约为真空室高度H0的0.3~0.7，浸入管半径R为真空室半径R0的0.5~1.0。本装置能够有效避免钢液上升和下降过程中的返混引起的混合不均，缩短混匀时间以及最大限度减少钢包内钢液流动死区，延长钢液在真空室的停留时间，从而提高精炼效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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