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一种提高光电跟踪系统跟踪精度的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011493317.5
  • IPC分类号:G05D3/12
  • 申请日期:
    2020-12-17
  • 申请人:
    中国工程物理研究院应用电子学研究所
著录项信息
专利名称一种提高光电跟踪系统跟踪精度的方法
申请号CN202011493317.5申请日期2020-12-17
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-04-20公开/公告号CN112684817A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G05D3/12IPC分类号G;0;5;D;3;/;1;2查看分类表>
申请人中国工程物理研究院应用电子学研究所申请人地址
四川省绵阳市游仙区绵山路64号919-1015信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国工程物理研究院应用电子学研究所当前权利人中国工程物理研究院应用电子学研究所
发明人田俊林
代理机构北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)代理人于晶晶
摘要
本发明公开了一种提高光电跟踪系统跟踪精度的方法,其技术方案要点是包括以下步骤:S01、确定电视跟踪器当量K;S02、确定电视跟踪器滞后时间τ;S03、将电视跟踪器获取的脱靶量像素值Δθn转换为脱靶量角度值dθn,n=1,2,…,其中n为正整数;S04、确定光电跟踪系统角度值θo,n平移个数N;其中T1为仪器数据采样间隔;S05、确定目标位置数据θi,n‑N,θi,n‑N=dθn+θo,n‑N;S06、根据目标位置数据控制光电跟踪系统对目标进行跟踪;确定电视跟踪器的当量K和电视跟踪器滞后时间τ,根据两个数据对脱靶量数据Δθn进行处理,得到的目标位置信息的精度大大提高,将目标位置信息作为光电跟踪系统的前馈,大大提高了光电跟踪系统的跟踪精度和稳定性。

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