光学薄膜及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610163933.8
IPC分类号：G02B1/00;G02B1/11;B32B7/02
申请日期：
2006-10-23
申请人：
日立麦克赛尔株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光学薄膜及其制造方法
申请号	CN200610163933.8	申请日期	2006-10-23
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-05-02	公开/公告号	CN1955762
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;0;0;;;G;0;2;B;1;/;1;1;;;B;3;2;B;7;/;0;2查看分类表>
申请人	日立麦克赛尔株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日立麦克赛尔株式会社	当前权利人	日立麦克赛尔株式会社
发明人	稻仓智生;大谷纪昭;久世定
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	钟晶

摘要

本发明提供一种包含透光性基底材料以及配置在所述透光性基底材料一个主面上的防反射层的光学薄膜，其中所述防反射层从所述透光性基底材料侧包含硬涂层和配置在所述硬涂层上的低折射率层，所述硬涂层采用包含电离放射线固化型树脂的树脂形成；相对于所述硬涂层的总重量，所述硬涂层包含5重量％以上、30重量％以下的导电性金属氧化物，所述硬涂层是采用包含0.05重量％以上、5.0重量％以下的水的涂布液来形成的。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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