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具有接触电容器电极的插塞的半导体存储器及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN01117562.1
  • IPC分类号:H01L27/105;H01L27/108;H01L21/8239;H01L21/28
  • 申请日期:
    2001-06-29
  • 申请人:
    海力士半导体有限公司
著录项信息
专利名称具有接触电容器电极的插塞的半导体存储器及其制造方法
申请号CN01117562.1申请日期2001-06-29
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2002-01-09公开/公告号CN1330407
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/105IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;0;5;;;H;0;1;L;2;7;/;1;0;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;9;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8查看分类表>
申请人海力士半导体有限公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海力士半导体有限公司当前权利人海力士半导体有限公司
发明人洪权;崔亨福
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波
摘要
本发明提供了一种半导体存储装置和一种可以防止电容器的介电层与扩散阻挡层接触的方法。插塞包括扩散阻挡层和种子层以形成电容器底电极。因此,这可以防止介电层与扩散阻挡层接触,因而泄漏电流可以减小。

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