在一层内包括客体材料的电子装置及形成该装置的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200580044618.7
IPC分类号：H01L21/00;H01L33/00
申请日期：
2005-12-29
申请人：
E.I.内穆尔杜邦公司

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著录项信息

专利名称	在一层内包括客体材料的电子装置及形成该装置的方法
申请号	CN200580044618.7	申请日期	2005-12-29
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-05-20	公开/公告号	CN101438382
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人	E.I.内穆尔杜邦公司	申请人地址	美国特拉华州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	E.I.内穆尔杜邦公司	当前权利人	E.I.内穆尔杜邦公司
发明人	S·普拉卡什;C·D·麦克费森;G·斯罗丹诺夫;M·斯坦纳;俞钢
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	朱黎明

摘要

一种用于形成电子装置的工艺包括在衬底上形成第一层并将第一液体组合物置于第一层的第一部分上。第一液体组合物至少包括第一客体材料和第一液体介质。第一液体组合物与第一层接触且大量的第一客体材料与第一层混和。一种电子装置包括衬底和覆盖在衬底上的连续的第一层。连续的第一层包括电子元件位于其中的第一部分和没有电子元件位于其中的第二部分。第一部分的厚度至少是30nm并包括第一客体材料，且第二部分的厚度不大于40nm。

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