电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010182925.4
IPC分类号：C25F3/16
申请日期：
2010-05-19
申请人：
易生科技（北京）有限公司

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专利名称	电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法
申请号	CN201010182925.4	申请日期	2010-05-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-11-23	公开/公告号	CN102251268A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25F3/16 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25F 电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备（借助电化学方法来处理水、废水或污水入C02F 1/46；阳极或阴极保护入 C23F13/00）〔2〕 C25F3/00 电解浸蚀或抛光〔2〕 C25F3/16 抛光〔2〕	IPC分类号	C;2;5;F;3;/;1;6查看分类表>
申请人	易生科技（北京）有限公司	申请人地址	北京市海淀区上地西路8号院上地科技大厦4号楼9层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	易生科技（北京）有限公司	当前权利人	易生科技（北京）有限公司
发明人	钟生平;高洪亮;赵迎红;刘睿
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供一种电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法，属于医用支架领域。其中，该支架抛光装置包括金属电极和设置在电解液中的阴极，还包括：连接部，用于将待抛光支架和所述金属电极连接以形成阳极；扩展部，包括两个金属管，分别设置在所述待抛光支架的两端，用于在电化学抛光过程中增加所述阳极的长度。本发明实施例能够有效改善支架抛光过程中造成的支架端部偏平的问题，提高支架整体抛光均匀性。本发明的技术方案可以应用在使用电化学方法抛光支架的系统中。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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