极紫外光源中的目标扩展速率控制

发明专利有效专利

申请号：
CN201680047368.0
IPC分类号：H05G2/00;H01S3/10;H01S3/08;H01S3/09;H01S3/102;H01S3/115;H01S3/117
申请日期：
2016-08-10
申请人：
ASML荷兰有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	极紫外光源中的目标扩展速率控制
申请号	CN201680047368.0	申请日期	2016-08-10
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-07-31	公开/公告号	CN108353489A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05G2/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05G X射线技术（用于放射诊断的仪器入A61B 6/00；X射线治疗入A61N；用X射线测试的入G01N；X射线照相设备入G03B；滤波器、转换屏、显微镜入G21K；X射线管入H01J 35/00；具有X射线输入的电视系统入H04N 5/321） H05G2/00 没有X射线管的、专用于产生X射线的设备或方法，如有等离子产生（X射线激光器入H01S 4/00；一般等离子体技术入H05H）〔5〕	IPC分类号	H;0;5;G;2;/;0;0;;;H;0;1;S;3;/;1;0;;;H;0;1;S;3;/;0;8;;;H;0;1;S;3;/;0;9;;;H;0;1;S;3;/;1;0;2;;;H;0;1;S;3;/;1;1;5;;;H;0;1;S;3;/;1;1;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	R·J·拉法克;D·J·里格斯
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	王茂华

摘要

一种方法，包括：提供目标材料，目标材料包括在被转换为等离子体时发射极紫外(EUV)光的成分；朝向目标材料引导第一辐射束以向目标材料传递能量以修改目标材料的几何分布以形成经修改的目标；朝向经修改的目标引导第二辐射束，第二辐射束将经修改的目标的至少一部分转换为发射EUV光的等离子体；测量相对于第一辐射束的与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性；以及基于测量的一个或多个特性来将从第一辐射束向目标材料传递的辐射曝光量控制在预定能量范围内。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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